ESR investigations of modulation-doped Si/SiGe quantum wells
- Afiliacje: ON4, ON4.3
- Data opublikowania (wydrukowania): 03-07-00
- Impact factor: 1
- Impact factor txt: 1,101
- Strony: 312-315
- Wolumin: 369
- Autor: Sandersfeld N., Jantsch W., Wilamowski Zbysław, Schaffler F.
- Tytuł publikacji: ESR investigations of modulation-doped Si/SiGe quantum wells
- DOI: https://doi.org/10.1016/S0040-6090(00)00870-1
- Rok: 2000
- Czasopismo / konferencja / monografia: Thin Solid Films
Thin Solid Films, 369 (2000)
