High-pressure high-temperature annealing of ion-implanted GaN films monitored by visible and ultraviolet micro-Raman scattering
- Afiliacje: SL1, SL1.3
- Data opublikowania (wydrukowania): 15-03-00
- Impact factor: 2
- Impact factor txt: 2,275
- Strony: 2736-2741
- Wolumin: 87 (6)
- Autor: Kuball M., Hayes J., Suski Tadeusz, Jun J., Leszczynski Michał, Domagała Jarosław Z., Tann H. H., Williams J. S., Jagadish C.
- Tytuł publikacji: High-pressure high-temperature annealing of ion-implanted GaN films monitored by visible and ultraviolet micro-Raman scattering
- DOI: https://doi.org/10.1063/1.372248
- Rok: 2000
- Czasopismo / konferencja / monografia: Journal of Applied Physics
Journal of Applied Physics, 87 (6) (2000)
